一，精細(xì)小的產(chǎn)品，采用傳統(tǒng)方式拋光，效率底，效果差，而且容易變形。采用等離子電漿拋光機(jī)可以對(duì)1MM以上的產(chǎn)品進(jìn)行拋光，而且采用專業(yè)制具，不存在任何變形。日產(chǎn)量200K以上。

　　二，效果方面，傳統(tǒng)方法一般只能打磨工件的外表面，對(duì)工件里面尤其是有凹進(jìn)的地方無能為力，而等離子電漿拋光能使工件的所有面具有光澤，達(dá)到鏡面效果、去毛刺、去披風(fēng)，在邊緣處產(chǎn)生微小鈍角。例如手機(jī)和一些高精密的電子產(chǎn)品都需要進(jìn)行去毛刺、去披風(fēng)處理。也逐漸成為內(nèi)部件表面處理的一種趨勢(shì)。

　　三，成本方面，由于傳統(tǒng)方法過來依賴人力，在人力資源越來越昂貴的時(shí)代，等離子電漿拋光機(jī)具有不可比擬的優(yōu)勢(shì)。 等離子電漿拋光在一定程度上依賴于傳統(tǒng)拋光，對(duì)于沖壓不是很好的產(chǎn)品需要先進(jìn)行傳統(tǒng)方法上的初磨，再進(jìn)行等離子電漿拋光能達(dá)到更好的效果。 如對(duì)于手機(jī)按鍵之類的小型產(chǎn)品我司的生產(chǎn)方法具有傳統(tǒng)方法不可比擬的優(yōu)勢(shì)，在效率方面大大提高，成本方面降低很多。對(duì)于單個(gè)小的手機(jī)按鍵我公司日產(chǎn)量能達(dá)到 20萬片。

　　由于是對(duì)工件的各個(gè)面均勻的拋光，并且能對(duì)1MM以上的部件進(jìn)行拋光而且不會(huì)影響工件本身的大小尺寸，高精度部件和有特殊要求的工件，傳統(tǒng)的拋光方法無法完成采用等 離子電漿拋光能達(dá)到異想不到的效果。這方面具有不可比擬的優(yōu)勢(shì)。手表行業(yè)目前應(yīng)用比較廣泛，手機(jī)滑軌方面,由于滑軌對(duì)光滑度要求很高,而傳統(tǒng)的手工打磨方式根本無法對(duì)凹槽內(nèi)進(jìn)行拋光,而且容易產(chǎn)生變形,拋光不均勻等。但等離子電漿拋光能對(duì)所有面均勻拋光,不會(huì)產(chǎn)生任何變形,效果高日產(chǎn)量能達(dá)到40K. 對(duì)于蝕刻后產(chǎn)品，尤其是深蝕后凹的部分會(huì)留下殘留物，出現(xiàn)黃印，暗點(diǎn)。影響整個(gè)外觀。經(jīng)過等離子電漿拋光后里面的殘留物，暗點(diǎn)都會(huì)去除，并且會(huì)更加光亮。對(duì)激光后產(chǎn)品增加亮度。 我公司專業(yè)生產(chǎn)等離子電漿拋光設(shè)備，該設(shè)備由機(jī)體、專用電源、和控制系統(tǒng)組成，其核心部分電源由我公司自主設(shè)計(jì)生產(chǎn)。 如貴公司有合作意愿，共謀發(fā)展，請(qǐng)聯(lián)系我們，我們將竭誠為您服務(wù)。

　　電漿拋光(EDTM)機(jī)的主要特點(diǎn):
　　(1)根據(jù)工件尺寸的不同,可以使工件在幾十秒至2分鐘內(nèi)達(dá)到近鏡面的拋光效果,使后續(xù)處理十分方便;
　　(2)在拋光過程中有效去除沖壓件或其它制造件的邊角毛刺;
　　(3)拋光過程中使工件表面產(chǎn)生一層鈍化膜,使其保持耐久光亮,增強(qiáng)拋光面的抗腐蝕性能;
　　(4)拋光均勻程度優(yōu)越,整個(gè)工件表面甚至于所有死角部位都可達(dá)到一致的近鏡面效果;
　　(5)拋光過程由電參數(shù)控制,全過程采用進(jìn)口PLC自動(dòng)化控制,操作簡單,維護(hù)方便;
　　(6)生產(chǎn)效率高,生產(chǎn)成本低;
　　(7)拋光過程不產(chǎn)生化學(xué)污染【低濃度藥劑(95%~97%水+3%~5%的藥品,PH值約6.5~7)】.
　　(8)清潔能力:EDTM系統(tǒng)不但定位為快速拋光機(jī)構(gòu)之外,同時(shí)亦適合作為各種形狀合金表面的去污、除脂、去氧化層、清潔殘留雜質(zhì)及化學(xué)藥物,提供工件表面鍍膜前比較優(yōu)質(zhì)的前置處理.

　　全自動(dòng)等離子電漿拋光機(jī)的工作原理:
　　全自動(dòng)等離子電漿拋光技術(shù)是基于等離子體的繞射效果來實(shí)現(xiàn)拋光作用的.將電解質(zhì)溶解于水里,通入直流電后,工件表面會(huì)出現(xiàn)穩(wěn)定的蒸氣氣體層,該氣體層會(huì)把被處理表面與電解質(zhì)水溶液隔開,從而導(dǎo)致表面與電解液蒸氣之間產(chǎn)生強(qiáng)烈的等離子體化學(xué)和電化學(xué)反應(yīng),使被處理表面產(chǎn)生陰極氧化.同時(shí)又使陰極氧化層受到化學(xué)侵蝕,在氧化速度與侵蝕速度相等時(shí)出現(xiàn)拋光效果,其表面為光潔度上升反射率提高.當(dāng)氧化層有點(diǎn)薄且又足以抵御侵蝕作用時(shí),其反射率出現(xiàn)比較高值.微觀不平處的氧化層會(huì)薄,因此侵蝕總是發(fā)生在凸起部位.

　　此外,被拋光表面被施加足夠高的電壓后，即會(huì)與氣體層、蒸氣、電解液之間產(chǎn)生很高的電場(chǎng)強(qiáng)度,強(qiáng)度也在微觀不平處得到強(qiáng)化.在這些作用的綜合效果下,被拋光物件表面微觀凸起部位被削平,即達(dá)到拋光和去毛刺的效果.